拋光機操作(zuo)的(de)關鍵是要設(she)法得到最大的(de)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)速(su)(su)率(lv)，以便盡快除去(qu)磨光(guang)時產(chan)生的(de)損(sun)傷(shang)(shang)層。同時也(ye)要使(shi)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)損(sun)傷(shang)(shang)層不會影響最終(zhong)觀察到的(de)組織，即不會造成假組織。前者(zhe)要求(qiu)使(shi)用(yong)較粗的(de)磨料，以保(bao)證有較大的(de)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)速(su)(su)率(lv)來去(qu)除磨光(guang)的(de)損(sun)傷(shang)(shang)層，但拋(pao)(pao)(pao)光(guang)損(sun)傷(shang)(shang)層也(ye)較深；后者(zhe)要求(qiu)使(shi)用(yong)最細(xi)的(de)材料，使(shi)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)損(sun)傷(shang)(shang)層較淺(qian)，但拋(pao)(pao)(pao)光(guang)速(su)(su)率(lv)低。

解(jie)決這(zhe)個矛(mao)盾的(de)(de)(de)最好(hao)的(de)(de)(de)辦法就(jiu)是(shi)把(ba)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)分(fen)為(wei)兩(liang)個階段(duan)進行(xing)。粗拋(pao)(pao)(pao)(pao)目(mu)的(de)(de)(de)是(shi)去(qu)除(chu)(chu)磨(mo)光(guang)(guang)(guang)損(sun)(sun)傷層(ceng)(ceng)(ceng)，這(zhe)一(yi)階段(duan)應具有(you)最大(da)的(de)(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)速率，粗拋(pao)(pao)(pao)(pao)形成(cheng)的(de)(de)(de)表層(ceng)(ceng)(ceng)損(sun)(sun)傷是(shi)次要的(de)(de)(de)考(kao)慮，不過也應當盡可能(neng)小(xiao)(xiao)；其(qi)次是(shi)精拋(pao)(pao)(pao)(pao)(或稱終(zhong)拋(pao)(pao)(pao)(pao))，其(qi)目(mu)的(de)(de)(de)是(shi)去(qu)除(chu)(chu)粗拋(pao)(pao)(pao)(pao)產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)表層(ceng)(ceng)(ceng)損(sun)(sun)傷，使拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)損(sun)(sun)傷減(jian)到(dao)(dao)最小(xiao)(xiao)。拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)機拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)時(shi)，試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)磨(mo)面(mian)與拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)盤應絕對平行(xing)并(bing)均勻地輕(qing)壓在拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)盤上，注(zhu)意(yi)防止試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)飛出和因壓力太(tai)(tai)大(da)而產(chan)生(sheng)(sheng)新磨(mo)痕(hen)。同時(shi)還應使試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)自(zi)轉(zhuan)(zhuan)并(bing)沿轉(zhuan)(zhuan)盤半(ban)徑方向來回移動，以避(bi)免拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)織(zhi)物(wu)局部磨(mo)損(sun)(sun)太(tai)(tai)快在拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)過程(cheng)中(zhong)(zhong)要不斷添(tian)加微(wei)粉懸浮液(ye)，使拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)織(zhi)物(wu)保持一(yi)定濕度。濕度太(tai)(tai)大(da)會減(jian)弱拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)的(de)(de)(de)磨(mo)痕(hen)作用(yong)(yong)，使試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)中(zhong)(zhong)硬相(xiang)呈現浮凸和鋼(gang)中(zhong)(zhong)非金屬夾雜物(wu)及鑄鐵中(zhong)(zhong)石墨相(xiang)產(chan)生(sheng)(sheng)“曳尾”現象；濕度太(tai)(tai)小(xiao)(xiao)時(shi)，由于摩擦(ca)生(sheng)(sheng)熱會使試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)升溫，潤滑作用(yong)(yong)減(jian)小(xiao)(xiao)，磨(mo)面(mian)失(shi)去(qu)光(guang)(guang)(guang)澤，甚至出現黑斑，輕(qing)合金則會拋(pao)(pao)(pao)(pao)傷表面(mian)。為(wei)了達(da)到(dao)(dao)粗拋(pao)(pao)(pao)(pao)的(de)(de)(de)目(mu)的(de)(de)(de)，要求轉(zhuan)(zhuan)盤轉(zhuan)(zhuan)速較低，最好(hao)不要超過/min；拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)時(shi)間(jian)應當比去(qu)掉(diao)劃痕(hen)所(suo)需的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)長(chang)些(xie)，因為(wei)還要去(qu)掉(diao)變形層(ceng)(ceng)(ceng)。粗拋(pao)(pao)(pao)(pao)后(hou)磨(mo)面(mian)光(guang)(guang)(guang)滑，但(dan)黯淡無光(guang)(guang)(guang)，在顯微(wei)鏡(jing)下(xia)觀察有(you)均勻細致的(de)(de)(de)磨(mo)痕(hen)，有(you)待精拋(pao)(pao)(pao)(pao)消除(chu)(chu)。

精拋時轉盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機拋光質量的好壞嚴重影響試樣的組織結構，已逐步引起有關專家的重視。國內外在拋光機的(de)性能上(shang)作(zuo)了(le)大量的(de)研(yan)究工作(zuo)，研(yan)究出(chu)不少新機(ji)型、新一(yi)代的(de)拋光(guang)設備，正由原來(lai)的(de)手(shou)動操作(zuo)發(fa)展成為各(ge)(ge)種各(ge)(ge)樣的(de)半自(zi)(zi)動及全自(zi)(zi)動拋光(guang)機(ji)。

通過以(yi)上對比(bi)可以(yi)得出(chu)，拋光(guang)機拋光(guang)的話比(bi)較適(shi)用一些(xie)！